研究目標(biāo)：不斷提升光學(xué)薄膜與功能薄膜理論水平，完善薄膜制備工藝，開(kāi)**型測(cè)試方法。在國(guó)內(nèi)實(shí)現(xiàn)**學(xué)科發(fā)展，滿足國(guó)家戰(zhàn)略需求的目的。 

主要研究方向如下： 

l 薄膜光學(xué)理論及成膜技術(shù)研究 

以電磁場(chǎng)理論為基礎(chǔ)，借鑒光子晶體理論和亞波長(zhǎng)理論的相關(guān)知識(shí)，發(fā)展并完善薄膜光學(xué)理論；利用PVD和CVD手段進(jìn)行薄膜沉積技術(shù)研究，在微尺度上研究不同工藝的成膜物理過(guò)程，結(jié)合各種檢測(cè)等對(duì)薄膜的特性進(jìn)行準(zhǔn)確表征和深入研究，實(shí)現(xiàn)成膜機(jī)理認(rèn)識(shí)的突破。 

2 超大尺寸反射鏡鍍膜設(shè)備及工藝 

 針對(duì)超大尺寸反射鏡的特點(diǎn)，探索新的鍍膜方法，解決SiC反射鏡表面改性和高反射膜鍍制的難題，**國(guó)內(nèi)超大型真空鍍膜設(shè)備制造的發(fā)展，研發(fā)配套工藝，為我國(guó)地基和天基應(yīng)用的超大尺寸反射鏡鍍膜提供堅(jiān)實(shí)的技術(shù)支持。 

3 新型硅基近紅外探測(cè)器光電材料研究 

通過(guò)對(duì)黑硅材料制備工藝、摻雜濃度、摻雜粒子種類(lèi)、表面金屬納米顆粒沉積等方面的研究，深入探索黑硅材料的結(jié)構(gòu)與特性，突破其在光電探測(cè)器件中應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)問(wèn)題。 

 4 雷達(dá)與紅外隱身功能材料設(shè)計(jì)與制備工藝技術(shù)研究 

通過(guò)開(kāi)展雷達(dá)隱身超材料的宏觀本構(gòu)參數(shù)設(shè)計(jì)與反演技術(shù)、集總型有源可調(diào)控隱身材料與饋電網(wǎng)絡(luò)一體化設(shè)計(jì)技術(shù)、曲面激光刻蝕準(zhǔn)確定位與材料**去除技術(shù)、多維復(fù)合紅外隱身材料的分析設(shè)計(jì)與工藝制備技術(shù)的研究，突破傳統(tǒng)雷達(dá)隱身材料性能局限和制造瓶頸，發(fā)展頻率可調(diào)控的有源隱身材料技術(shù)，建立起完備的設(shè)計(jì)、制造和測(cè)試條件保障，形成多功能雷達(dá)隱身材料的研制能力，實(shí)現(xiàn)多種型號(hào)應(yīng)用，滿足國(guó)家重大戰(zhàn)略需求；以紅外隱身技術(shù)為切入點(diǎn)，探索紅外隱身材料新機(jī)理、新方法，**紅外隱身材料制備工藝，為**裝備的紅外隱身技術(shù)提供新思路、新技術(shù)。在此基礎(chǔ)上，進(jìn)一步將研究工作拓寬到可見(jiàn)光隱身技術(shù)領(lǐng)域，為我所在先進(jìn)光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域開(kāi)辟新方向。 

上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專(zhuān)業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件?的高科技企業(yè)，公司成立２００５年，專(zhuān)業(yè)的光電鍍膜公司，公司產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工；光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)，為全球客戶(hù)提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。

采用德國(guó)薄膜制備工藝，形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系，能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜，包括紅外薄膜、增透膜，ARcoating, 激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜，應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、紅外制導(dǎo)、面部識(shí)別、VR/AR應(yīng)用,博物館，低反射櫥窗玻璃，畫(huà)框等。