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各種超高性能光學(xué)薄膜嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系
日期:2025-11-12 21:50
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摘要:各種超高性能光學(xué)薄膜嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系
美國**指標(biāo)MIL-E-12397B,可追溯到1954年,直到現(xiàn)在仍在采用。這一指標(biāo)詳述了一個在測試薄膜光學(xué)元件時所用到的浮石研磨材料構(gòu)成的擦除器。這種擦除器在許多包括磨損測試的美國**指標(biāo)中用到。一個重要的指標(biāo)是MIL-C-675C,這一指標(biāo)嚴(yán)格地應(yīng)用于單層氟化鎂減反膜,但也被作為寬波段光學(xué)薄膜的標(biāo)準(zhǔn)。盡管這是一個嚴(yán)格的**標(biāo)準(zhǔn),但它經(jīng)常用在光學(xué)薄膜中。
來自不同批次的研磨墊很難達(dá)到完全相同的研磨性能。利用可能包含或者不包含研磨顆粒的襯墊進(jìn)行類似的測試,該方法被廣泛使用。利用粗糙的布甚至是鋼絲絨進(jìn)行類似的測試也是常見的。
他們研究了許多不同的蒸發(fā)條件,包括入射角和基底溫度。對于典型的在綠光波段具有增透作用的氟化鎂薄膜,其耐磨性的常見值為2~5,這依賴于具體的淀積條件。當(dāng)基底的溫度在蒸發(fā)期間達(dá)到300℃,并且在蒸發(fā)前通過輝光放電清洗十分鐘,則可獲得*佳效果。如果溫度降低到260℃或者只有5分鐘的輝光放電清洗,則耐磨性會明顯降低。他們還發(fā)現(xiàn)通過粗絨布拋光或沉積之后在空氣中以400℃的溫度進(jìn)一步烘烤,則薄膜的耐磨性會相應(yīng)的增強(qiáng)。獲得的另一個重要結(jié)果是在薄膜淀積過程中蒸汽入射臨界角的出現(xiàn),大于臨界角時耐磨性迅速下降。臨界角隨薄膜厚度而發(fā)生輕微的變化,但是當(dāng)厚度超過300nm時,這一角度近似為40度,并厚度的減小而增大。
看來耐磨性測試從未在指標(biāo)上達(dá)成共識。再生產(chǎn)中將其作為一種質(zhì)量控制測試是非常有用的,特別是在質(zhì)量降低到正常磨損測試水平以下之前,能夠及時檢測到質(zhì)量的降低,這樣在薄膜報廢之前可以采用相應(yīng)的補(bǔ)救措施。
采用德國薄膜制備工藝,形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系,能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜,包括紅外薄膜、增透膜,ARcoating, 激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜,應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、紅外制導(dǎo)、面部識別、VR/AR應(yīng)用,博物館,低反射櫥窗玻璃,畫框等。
隨著激光技術(shù)在**、醫(yī)學(xué)、工業(yè)和科研的廣泛應(yīng)用,研制激光防護(hù)裝置以保證使用人員的**以及光電設(shè)備的高效利用顯得十分必要。許多國家十分重視各種激光防護(hù)屏、防護(hù)器材以及激光防護(hù)濾光片的研究。特別是**應(yīng)用中,為了確保光電探測系統(tǒng)的光敏元件不受激光損壞,以及解決大功率激光器系統(tǒng)中的各鍍膜元件不受激光損傷的難題,研究如何提高光學(xué)薄膜損傷閾值顯得尤為關(guān)鍵。這對于戰(zhàn)略及戰(zhàn)術(shù)**的研制具有十分重要的意義。
上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件?的高科技企業(yè),公司成立2005年,專業(yè)的光電鍍膜公司,公司產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工;光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開發(fā)和生產(chǎn),為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。
采用德國薄膜制備工藝,形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系,能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜,包括紅外薄膜、增透膜,ARcoating, 激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜,應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、紅外制導(dǎo)、面部識別、VR/AR應(yīng)用,博物館,低反射櫥窗玻璃,畫框等。



